-
1 reactive ion etching
Микроэлектроника: реактивное ионное травление -
2 reactive-ion etching
Микроэлектроника: реактивное ионное травление, РИТ -
3 reactive ion etching
English-russian dictionary of physics > reactive ion etching
-
4 reactive ion etching
English-Russian electronics dictionary > reactive ion etching
-
5 reactive ion etching
The New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > reactive ion etching
-
6 reactive ion etching
English-Russian dictionary of electronics > reactive ion etching
-
7 deep reactive ion etching
глубокое реактивное ионное травление
Метод используется для установки границ глубоких геометрических конфигураций в кремнии; необходим для формирования структур MEMS.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > deep reactive ion etching
-
8 Deep Reactive Ion Etching
Универсальный англо-русский словарь > Deep Reactive Ion Etching
-
9 deep reactive ion etching
Универсальный англо-русский словарь > deep reactive ion etching
-
10 hydrogen reactive ion etching
Микроэлектроника: реактивное ионное травление в среде водородаУниверсальный англо-русский словарь > hydrogen reactive ion etching
-
11 reactive ion-beam etching
Техника: реактивное ионно-лучевое травлениеУниверсальный англо-русский словарь > reactive ion-beam etching
-
12 etching
- channel etching
- deep etching
- dry etching
- dry plasma etching
- electrolytic etching
- gas etching
- ion etching
- ion-beam sputter etching
- isotropic etching
- jet etching
- lift-off etching
- mask etching
- masked etching
- mesa etching
- oxide etching
- photochemical etching
- photoresist-mask etching
- plasma etching
- reactive ion etching
- reactive plasma etching
- RF sputter etching
- selective etching
- silicon etching
- silicon dioxide etching
- sputter etching
- substraction etching
- surface etching
- thermal etching
- vapor etching
- vapor-phase etching
- wet etching -
13 etching
- channel etching
- deep etching
- dry etching
- dry plasma etching
- electrolytic etching
- gas etching
- ion etching
- ion-beam sputter etching
- isotropic etching
- jet etching
- lift-off etching
- mask etching
- masked etching
- mesa etching
- oxide etching
- photochemical etching
- photoresist-mask etching
- plasma etching
- reactive ion etching
- reactive plasma etching
- RF sputter etching
- selective etching
- silicon dioxide etching
- silicon etching
- sputter etching
- substraction etching
- surface etching
- thermal etching
- vapor etching
- vapor-phase etching
- wet etchingThe New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > etching
-
14 etching
1) травление, протравливание2) гравирование3) гравюра4) клише•-
acid etching
-
anode etching
-
argon etching
-
deep etching
-
dip etching
- dry process etching -
dry etching
-
electrolytic etching
-
etching of grain boundaries
-
glue etching
-
ion-beam etching
-
ion etching
-
jet etching
-
liquid etching
-
matt etching
-
mat etching
-
mesa etching
-
multitone etching
-
neutral particle etching
-
one-bite etching
-
plasma reactor etching
-
plasma etching
-
powderless etching
-
reactive etching
-
selective etching
-
side etching
-
spray etching
-
sputter etching
-
thermal etching
-
undercutting etching
-
undercut etching
-
wet etching
-
window etching -
15 ion-beam assisted reactive etching
Микроэлектроника: реактивное травление с применением ионного пучкаУниверсальный англо-русский словарь > ion-beam assisted reactive etching
-
16 RIE
= reactive ion etching -
17 DRIE
1) Техника: deep reactive ion etching2) Микроэлектроника: глубинное реактивное ионное травление (Deep Reactive Ion Etching) -
18 MORIE
1) Электроника: Metal Organic Reactive Ion Etching2) Полупроводники: metal-organic reactive ion etching -
19 RIE
3) Биржевой термин: Recognised Investment Exchange4) Сокращение: Reactive Ion Etching5) Вычислительная техника: Reactive Ion Etching (IC)6) Банковское дело: официальная инвестиционная биржа (recognized investment exchange)7) Сейсмология: rare intense earthquake9) Образование: Register In Education, Resources In Education10) Инвестиции: recognized investment exchange11) Сахалин Ю: remote instrument enclosure12) Аэропорты: Rice Lake, Wisconsin USA -
20 DRIE
- 1
- 2
См. также в других словарях:
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
reactive ion etching — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
Deep Reactive Ion Etching — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
reactive ion milling — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion-beam etching — reaktyvusis jonpluoštis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam etching vok. reaktives Ionenstrahlätzen, n rus. реактивное ионно пучковое травление, n pranc. décapage par faisceau d ions réactifs, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Etching (microfabrication) — Etching tanks used to perform Piranha, Hydrofluoric acid or RCA clean on 4 inch wafer batches at LAAS technological facility in Toulouse, France Etching is used in microfabrication to chemically remove layers from the surface of a wafer during… … Wikipedia
Ion-beam sculpting — Ion Beam scultping is a term used to describe a two step process to make solid state nanopores. The term itself was coined by Golovchenko and co workers at Harvard in the paper Ion beam sculpting at nanometer length scales [J. Li, D. Stein, C.… … Wikipedia
Ion beam — An ion beam is a type of particle beam consisting of ions. Ion beams have many uses in electronics manufacturing (principally ion implantation) and other industries. Today s ion beam sources are typically derived from the mercury vapor thrusters… … Wikipedia
